SKIN 1004 - Madagascar Centella Poremizing Quick Clay Stick Mask 27G SCINIC Reparación intensa 🎯: Con centella

Reparación intensa 🎯: Con centella asiática y ácido hialurónico que regeneran la piel

proporcionar una hidratación profunda y revitalizar la piel cansada

Ideal para usar como base de maquillaje ligera

Hidratación Profunda: El ácido hialurónico y los péptidos proporcionan una hidratación intensa y duradera

Ayuda a proteger la piel del sol y a mantenerla hidratada

SKIN 1004 - Madagascar Centella Poremizing Quick Clay Stick Mask 27G SCINIC Reparación intensa 🎯: Con centellaMascarilla de arcilla en barra para poros limpios y piel calmada con Centella Asitica. Modo de uso Piel limpia y seca: Gira la base para exponer la mascarilla y aplica directamente sobre el rostro. Concntrate en reas problemticas: Aplica una capa uniforme en las zonas con poros dilatados o puntos negros. Deja actuar durante 10 15 minutos: O hasta que la mascarilla est seca. Enjuaga con agua tibia: Retira completamente la mascarilla. Sigue con tu