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Jusqu'à 30 000 lux
il est livré avec un support polyvalent qui vous offre la possibilité de le tenir à la main ou de le poser pour scanner un objet sur un plateau tournant
Résistance à la traction (MPa): 45
Résistance maximale à la flexion(MPa): 58
Vous pouvez également l'utiliser pour imprimer vos travaux de conception CAO 3D et donner corps à vos projets
Bambu Lab Kit Upgrade série X/P serie Version Buffer (X/P Link AMS 2 Pro Upgrade Kit ) AccessoiresDAGOMA Jusqu'à 30 000 lux
US$ 524.25
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